XGZK-IV真空開關(guān)真空度測(cè)試儀

簡(jiǎn)單介紹

這些年來，由于生產(chǎn)工藝和現(xiàn)場(chǎng)使用環(huán)境方面的原因，有些真空開關(guān)在運(yùn)行過程中其真空滅弧室會(huì)有不同程度的泄漏，有的在正常壽命范圍內(nèi)就可能泄漏到無(wú)法正常開斷的地步。在這種情況下進(jìn)行開斷就會(huì)出現(xiàn)不能正常開斷的現(xiàn)象而造成嚴(yán)重的后果。國(guó)內(nèi)真空開關(guān)事故大多是由此原因引起。所以加強(qiáng)定期或不定期檢測(cè)真空開關(guān)真空度成了十分重要的環(huán)節(jié)。 傳統(tǒng)的檢測(cè)方法是“耐壓法”，即真空開關(guān)處于開斷狀態(tài)下，在動(dòng)靜觸頭之間施加一定的電壓，檢測(cè)其泄漏電流的大小，由此推斷真空管的好壞。這種方法的優(yōu)點(diǎn)是：操作簡(jiǎn)單；缺點(diǎn)是：只能定性地檢測(cè)真空管的好壞；而且真空度在10-5～10-1Pa之間無(wú)法準(zhǔn)確分辨，所以無(wú)法判斷泄漏的發(fā)展趨勢(shì)（即同一個(gè)真空開關(guān)和上次相比有多大程度的泄漏）。

XGZK-IV真空開關(guān)真空度測(cè)試儀的詳細(xì)介紹

      華中科技大學(xué)從九十年代初開始研究真空開關(guān)滅弧室真空度現(xiàn)場(chǎng)的定量檢測(cè)，經(jīng)過近十年的努力，于一九九九年獲得，并實(shí)現(xiàn)了現(xiàn)場(chǎng)不拆卸定量測(cè)量。有了定量測(cè)量的手段，不僅可以測(cè)量真空開關(guān)真空度是否在正常范圍內(nèi)，同時(shí)更重要的是，對(duì)某些泄漏速度較快的真空開關(guān)，通過歷年測(cè)量結(jié)果相比較，可以大致推斷它的壽命，真正起到預(yù)防意外事故發(fā)生的目的。
本公司推出的XGZK-IV型真空度測(cè)試儀是經(jīng)現(xiàn)場(chǎng)多次試驗(yàn)后不斷完善的升級(jí)換代產(chǎn)品。該產(chǎn)品結(jié)構(gòu)緊湊，機(jī)型輕便小巧，測(cè)試時(shí)間更短，測(cè)量可靠性、穩(wěn)定性、精度更高，功能更加完善。
 

產(chǎn)品特征：
  ●可定量測(cè)量各種型號(hào)真空開關(guān)滅弧室內(nèi)的真空度
  ●現(xiàn)場(chǎng)測(cè)量時(shí)不需拆卸真空開關(guān)
  ●測(cè)試結(jié)果準(zhǔn)確可靠
  ●液晶漢字顯示，操作更加簡(jiǎn)單方便；高速熱敏打印
  ●可保存、打印、查看測(cè)試的歷史試驗(yàn)數(shù)據(jù)
  ●儀器帶有RS232通訊接口，可以連接計(jì)算機(jī)實(shí)現(xiàn)通過計(jì)算機(jī)對(duì)儀器控制與操作等多種功能
  ●儀器重量輕，攜帶方便

測(cè)試原理：
     本儀器采用磁控放電法進(jìn)行測(cè)量。將真空開關(guān)滅弧室的兩觸頭拉開一定的距離，施加電場(chǎng)脈沖高壓，將滅弧室置于螺線管圈內(nèi)或?qū)⑿滦碗姶啪€圈置于滅弧室外側(cè)，向線圈通以大電流，從而在滅弧室內(nèi)產(chǎn)生與高壓同步的脈沖磁場(chǎng)。這樣，在脈沖強(qiáng)磁場(chǎng)和強(qiáng)電場(chǎng)的作用下，滅弧室中的帶電離子作螺旋運(yùn)動(dòng)，并與殘余氣體分子發(fā)生碰撞電離，所產(chǎn)生的離子電流與殘余氣體密度即真空度近似成比例關(guān)系。對(duì)于不同的真空管型號(hào)（管型），由于其結(jié)構(gòu)不同，在同等觸頭開距、同等真空度、同等電場(chǎng)與磁場(chǎng)的條件下，離子電流的大小也不相同。通過實(shí)驗(yàn)可以標(biāo)定出各種管型的真空度與離子電流間的對(duì)應(yīng)關(guān)系曲線。當(dāng)測(cè)知離子電流后，就可以通過查詢?cè)摴苄偷碾x子電流一真空度曲線獲得該管型的真空度。

      在常規(guī)磁控放電測(cè)試滅弧室的真空度時(shí)，為了提高其測(cè)試靈敏度，需從斷路器上卸下滅弧室，并置于螺線管線管內(nèi)。這樣一來，滅弧室在重新裝回?cái)嗦菲鲿r(shí)需要調(diào)整機(jī)械參數(shù)，工作量很大并需專業(yè)人員。而使用新型磁控線圈可以從側(cè)面包圍滅弧室，這樣就不必拆卸滅弧室。而采用單片微機(jī)進(jìn)行同步控制與數(shù)據(jù)采集處理，提高了滅弧室真空度的現(xiàn)場(chǎng)測(cè)試靈敏度。

規(guī)格參數(shù)：